作者:邱服民;马平;柴林
摘要：极高反射率的光学薄膜的主要镀制方:一种是等离子溅射技术;另一种是传统的电子束镀制法。相比等离子溅射技术,电子束镀制法在相同条件下达到相同反射率所需层数多,所镀制薄膜散射损耗相对要大,但是设备相对便宜。测试均使用精度为0．1％的Lambda分光光度计。在(?)50mm×5mm的单晶硅基底上,对入射波长1．315μm,入射角为0°,镀制高反射率薄膜。在LEYBOLDAPS 1504上,以Ta2O5为高折射率材料,蒸发速率0．3nm／s,充氧量25sccm／min, 基本真空度0．9mPa。使用等离子体辅助沉积技术,离子流的偏压为120V,发射电流为40A。以SiO2为低折射材料,蒸发速率0．60nm／s,充氧量8sccm／min,开始镀膜真空40mPa,基本真